半导体工业照明光学

光学技术的先驱

在半导体技术的高科技领域,我们的主要重点是用于芯片生产的照明光学。这些大型和特别精确的透镜组件和镜面光学在UV和EUV范围内工作。由于它们不同寻常的特性,它们为许多其他市场铺平了道路。

“主流媒体对极紫外(EUV)光刻系统的报道并不多,但它背后的技术最终在世界各地的芯片制造工厂批量生产,应该被视为现代工业时代的奇迹之一。”

光子学报,2019年10月18日- optics.org

为芯片生产设计照明光学装置

芯片生产对照明光学的质量要求是巨大的。为了生产市场上价格从1亿美元起的EUV系统,需要以下设计设置:

  • 就单个表面而言,精度可达纳米甚至亚纳米范围

  • 极高的稳定性和刚性,以实现高重复性

  • 在操作和规范方面遵守6西格玛质量流程

在这些高精度透镜组件的设置过程中,各个透镜元件在集中度测试的帮助下与它们的单元和彼此对齐。通过MTF或波前测试来验证图像质量。

光学器件的尺寸使得在不同的测量系统之间进行更改特别困难。因此,测量系统的集成在一个有效的工作过程中是极其重要的。

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