半导体工业照明光学

光学技术的先驱

在半导体技术的高科技领域,我们主要专注于芯片生产的照明光学。这些大型和特别精确的镜头组件和镜面光学在UV和EUV范围内工作。由于它们不同寻常的属性,它们为许多其他市场铺平了道路。

“它没有得到太多的主流报道,但极紫外线(EUV)光刻系统背后的技术最终在世界各地的芯片制造设施中实现了批量生产,应该被视为现代工业时代的奇迹之一。”

2019年10月18日- optics.org

设计用于芯片生产的照明光学装置

芯片生产对光学照明的质量要求非常高。目前市场上的EUV系统价格为1亿美元起,为了生产该系统,设计设置要求如下:

  • 就单个表面而言,精度可达纳米甚至亚纳米范围

  • 极致的稳定性和刚性,以实现高重复性

  • 在操作和规范方面坚持6sigma质量流程

在这些高精度透镜组件的安装过程中,在集中测试的帮助下,单个透镜元素与它们的单元和彼此对齐。通过MTF或波前测试来验证图像质量。

光学元件的尺寸使得在不同的测量系统之间改变特别困难。因此,在一个高效的工作过程中,测量系统的集成是极其重要的。

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