光学技术先驱
在半导体技术的高科技领域中，我们的主要重点是用于芯片生产的照明光学元件。这些大型，特别精确的镜头组件和镜像光学元件在紫外线和EUV范围内起作用。由于他们的非同寻常的财产，他们为许多其他市场铺平了道路。
“It doesn’t get much mainstream coverage, but the technology behind the extreme ultraviolet (EUV) lithography systems that are finally cranking up to volume production in chip fabrication facilities around the world ought to be regarded as one of the marvels of the modern industrial era.”
Photonics News，2019年10月18日 - Optics.org
芯片生产的照明光学设置
针对芯片生产的照明光学质量要求是巨大的。为了生产EUV系统，这些系统从起价为1亿美元的价格开始，设计设置需要以下内容：
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就各个表面而言
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极端稳定性和刚性，以实现高可重复性
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关于操作和规格的遵守6 Sigma质量过程
在设置这些高精度镜头组件的过程中，单个晶状体元素既与其细胞对齐，又在核心测试的帮助下对齐。图像质量的验证是通过MTF或Wave Front测试进行的。
光学器件的大小使得在不同的测量系统之间进行更改特别困难。因此，在有效的工作过程中测量系统的集成非常重要。
视力®300
视力®向上结合
Wavemaster®Ust